7月15日，由國家知識產權局和世界知識產權組織共同評選的第二十一屆中國專利獎正式發(fā)布授獎決定，上海微電子公司發(fā)明專利“一種步進光刻設備及光刻曝光方法（ZL201110241791.3）”榮獲第二十一屆中國專利優(yōu)秀獎，這也是上海微電子公司獲得的第九項中國專利優(yōu)秀獎。
上海微電子裝備(簡稱SMEE)主要致力于半導體裝備、泛半導體裝備、高端智能裝備的開發(fā)、設計、制造、銷售及技術服務。公司設備廣泛應用于集成電路前道、先進封裝、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造領域。
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